分類: 最新資訊 育兒詞典 編輯 : 育兒知識(shí) 發(fā)布 : 04-07

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Intel當(dāng)前的12代、13代酷睿使用的是Intel 7工藝，今年底的14代酷睿Meteor Lake還會(huì)首發(fā)Intel 4工藝，這也是Intel首次大規(guī)模使用EUV光刻機(jī)。EUV光刻機(jī)雖然先進(jìn)，但是成本也高，而且高端工藝甚至需要雙重光刻，也就是用EUV光刻機(jī)曝光兩次，生產(chǎn)工序就需要重復(fù)兩次，比如蝕刻、清洗、沉積、去膠等等，無(wú)疑會(huì)增加成本。美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備大廠應(yīng)用材料現(xiàn)在推出Centura Sculpta曝光系統(tǒng)設(shè)備，將原本需要雙重曝光的EUV光刻工藝簡(jiǎn)化到了單次曝光，大大降低了設(shè)計(jì)成本和復(fù)雜性，并且消除了雙重曝光所需的對(duì)準(zhǔn)導(dǎo)致的良率問(wèn)題。根據(jù)應(yīng)用材料的說(shuō)法，采用該系統(tǒng)的芯片制造商如果運(yùn)行一條每月加工10萬(wàn)片晶圓的生產(chǎn)線，將節(jié)省多達(dá)2.5億美元的資本成本。此外，每片晶圓的成本將減少約50美元，所需能源也將減少15千瓦時(shí)，還將減少15升水的需求，減少0.35千克的二氧化碳排放。這個(gè)新設(shè)備已經(jīng)有Intel投入使用了，三星及臺(tái)積電用沒(méi)用還沒(méi)公布，但是Intel無(wú)疑會(huì)走在降低成本的前列。

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